LP低轮廓铜箔

LP低轮廓铜箔

低轮廓电子电路铜箔专为高速高频及柔性电子应用研发,其极低的表面粗糙度(M面Rz 3.0-4.5μm)有效保障了信号完整性。产品常温延伸率≥7.0%,兼具优异柔韧性与180℃高温稳定性,在确保可靠结合力的同时,完美适配HDI板、汽车雷达、可穿戴设备及柔性电路板的精密加工需求。 

物性性能表

项目

单位

参数

标称厚度 

μm

12

18

30

35

面密度

g/m2

108±4

153±5

237±5

275±6

粗糙度

S面

μm

≤0.40

M面

μm

≤5.2

≤5.7

≤6.2

≤6.5

抗拉强度

R.T.(23℃)

Mpa

≥380

H.T.(180℃)

≥150

延伸率

R.T.(23℃)

%

≥5

≥7

≥10

≥12

H.T.(180℃)

≥5

≥11

剥离强度(普通TG)

N/mm

0.85

1.05

1.2

1.35

针孔和渗透点 

/

 

电镜下铜箔形貌

光面放大2000倍
LP低轮廓铜箔
毛面放大2000倍
LP低轮廓铜箔

下游应用场景

柔性印刷电路板 (FPC)
LP低轮廓铜箔
通信基础设施
LP低轮廓铜箔
高密度互联HDI板
LP低轮廓铜箔

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